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      2019屆高功率脈沖磁控濺射沉積薄膜技術(shù)與應(yīng)用專題會(huì)議

      來源:  未知   作者:  管理員   時(shí)間:  2019-08-01  點(diǎn)擊:   1944 次

          

          2019728~30日,“2019屆高功率脈沖磁控濺射沉積薄膜技術(shù)與應(yīng)用專題會(huì)議”在蘭州召開,通過會(huì)議交流、深入討論及與國際知名企業(yè)對接,推動(dòng)我國高功率脈沖磁控濺射沉積薄膜技術(shù)的發(fā)展。會(huì)議結(jié)束后,參會(huì)代表來蘭州華匯儀器科技有限公司參觀交流,針對實(shí)驗(yàn)室儀器設(shè)備我司人員為各位代表進(jìn)行詳細(xì)的講解。


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